Silica dioxide, còn được gọi là silicon dioxide hoặc silica, là một vật liệu thường được sử dụng trong việc sản xuất màng mỏng cho nhiều loại
Các ứng dụng, bao gồm phim CTF (Phim mỏng màu). Phim CTF được sử dụng trong các thiết bị điện tử khác nhau, chẳng hạn như màn hình,
màn hình cảm ứng, và lớp phủ quang học.
Silica dioxide là một chất liệu trong suốt và có độ khúc xạ cao, làm cho nó trở nên lý tưởng cho các ứng dụng màng mỏng trong đó các đặc tính quang học
rất quan trọng. Nó có điểm nóng chảy cao, độ ổn định nhiệt tuyệt vời và khả năng kháng hóa chất tốt, làm cho nó phù hợp để sử dụng
môi trường khắc nghiệt.
Trong việc sản xuất màng CTF, silica dioxide thường được gửi vào chất nền bằng cách sử dụng các kỹ thuật như hơi vật lý
lắng đọng (PVD) hoặc lắng đọng hơi hóa học (CVD). Các quy trình này cho phép sự lắng đọng được kiểm soát của một lớp mỏng của
Silica dioxide lên chất nền, dẫn đến một bộ phim đồng nhất và chất lượng cao.
Độ dày của màng silica dioxide có thể được kiểm soát để đạt được các đặc tính quang học cụ thể, chẳng hạn như lớp phủ chống phản xạ
hoặc bộ lọc màu. Bằng cách điều chỉnh độ dày và chỉ số khúc xạ của màng, các bước sóng ánh sáng khác nhau có thể được chọn lọc
Truyền hoặc phản xạ, dẫn đến các hiệu ứng màu mong muốn trong màng CTF.
Silica dioxide cũng được sử dụng làm lớp rào cản trong màng CTF để bảo vệ các lớp bên dưới khỏi độ ẩm, oxy và các lớp khác
nhân tố môi trường. Điều này giúp cải thiện độ bền và tuổi thọ của bộ phim, đảm bảo hiệu suất của nó theo thời gian.
Nhìn chung, silica dioxide là một vật liệu đa năng và thiết yếu trong việc sản xuất màng CTF, cung cấp các đặc tính quang học tuyệt vời,
Sự ổn định nhiệt, và bảo vệ cho các thiết bị điện tử.
Sắc tố chống ăn mòn, lớp phủ thụ thể in phun, chất làm mờ, PET
